Logitech Ltd - World Leaders in cutting, lapping and polishing equipment

English | 中文

CP4000 化学抛光机

CP4000 Chemical Polishing Machine

主要特性

  • 最少次级表面损伤
  • 标准甲板容纳9个7.6cm (3")晶片
  • 抗腐材料制成
  • 封装在通风柜中,给操作者最大的保护
  • 半导体晶片和光晶体的精细腐蚀抛光

描述

本系统专门设计带有内部通风柜装置,最大样品容量为:9片直径76mm样品(下单时指定甲板配置)。

Logitech CP4000是一个抗腐蚀化学抛光机,集成外围通风柜,设计以提供一个有效成本的设备用于腐蚀性及正常危险化学抛光操作。

CP4000主要由聚丙烯,PVDF(聚偏氟乙稀)和其它抗腐蚀材料制成,适用于很多种化学抛光剂。一个万向转动机械装置和所有的电力机械装置都安放在低端甲板下。低端甲板和驱动盘基底间的液封装置能将工作区域隔开以防止腐蚀,驱动轴和低端工作甲板间用一橡皮密封。通过前端一个装有控制机构的活动面板可进入甲板下方区域。此区域有冷却扇及适当的排风。小室的窗可设置在各种位置,它是一种坚固的玻璃,有良好的能见度,小室内工作区域还提供内部照明设备。

 

产品附件

CP4000有两种安装配置以适合不同工艺:一种抛光盘配置:尺寸范围从直径25.40 –45.72cm (10-18”),45.72cm (18”)盘是标准配置,其它直径的盘可在定单上注明。另和种工作甲板配置:标准的甲板配置能容纳9片直径7.62cm (3”)晶片。

产品规格

电源 : 230V, 50-60Hz 或 110V, 50/60Hz
工作甲板区 : 864mm x 407mm
盘旋转速度 : 0-70rpm
盘直径 : 457mm (18")
最大样品 尺寸 : 9 x 76mm (3") ø
高 : 1040mm
长 : 760mm
宽 : 1270mm
高 : 145Kg

 

需要更多关于CP4000的信息,请至电 +86 (10)62564811,62538157或者填写我们的联系表格.

首页 | 网站地图 | 条款 | 版权 | 联系我们 | ©2007 Logitech Ltd