主要特性
- 自动磨盘平整度控制可用
- 可处理6英寸片
- 直径22"(56cm)盘
- 四工作站
- 完整填料系统
描述
LP600能给半导体及光电子行业等提供高质量的磨抛设备，能确保样品的平整度、最小变形及无次级表面损伤。
在研磨抛光到直径6英寸的晶片时自动填料系统使得操作者能效的功能控制磨料，另一版本的LP600还能够防次氯酸抛光液腐蚀，能适用于化学机械 抛光 工艺。
LP600有四工作站，自动摆臂功能及直径56厘米的盘，能够容纳四个PP5，PP6或PP8夹具。
在LP600上使用PP8夹具时，会采用更大的负载和更有力的驱动电机，这使得LP600系列机器能给小批量研磨抛光生产有效的提高产量。
产品配置
LP600可配置 PP5或PP6/PP8夹具。除此之外还有以下配置(有无摆臂功能，自动磨盘平整度控制，自带真空单元，防腐):
产品规格
| 电源 : | 220/240V, 50Hz |
| 保险 : | 10A |
| 盘速 : | 1-100rpm |
| 定时 : | 0 to 10 hours |
| 盘尺寸 : | 560mm (22") |
| 高 : | 1400mm (不包括料桶) 1467mm (包括料桶) |
| 长 : | 720mm |
| 宽 : | 1120mm |
| 重 : | 430Kg |
| 盘重 : | 55Kg |
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