主要特性
- 反向渗析技术的水洁化过程
- 88升的废料桶
- 超纯水过滤去离子净化水
- 超纯水流速1.3升每分钟
描述
CDP水柜是设计与CDP自动化学除层及平坦化抛光系统配合使用的机型。它可以提供晶片清洗用的去离子水源。水柜内部设计有存储废液及洁净水的箱子，以方便对晶片及器件的清洗。
反向渗析系统:
.通常自来水由外部输入到水柜内，再用反向渗析技术对自来水进行净化。
这一过程通过一些过滤器将任何的沉淀及氯气去除掉。需要更换这些过滤器的频率由输入到水柜内的自来水纯度决定。
存储箱:
经由反向渗析系统处理的水会存储到存储箱内。存储箱由坚固材料制成而且密封，内部装有过滤器，用来防止任何空气污染。液面控制能够监控箱内是空还是满的状况，并能根据需要自动启动或停止RO（反向渗析）系统。
超纯水过滤器:
净化水由存储箱输入到极纯水过滤器内，在过滤器内净化水被去离子，紫外氧化处理及被过滤（UV/UF)。从这里经过净化后的水就可用于晶片，IC和器件的清洗。
废液装填:
内有一个88升容量的废料桶。它被放置在一个密封区域以防止污染水处理系统，而CDP工艺区的废料被直接导到这里。当废液箱需要清空时，安装的报警系统会自动报警.
产品附件
本产品无其它附件.
产品规格
| 超纯水流速: | 1.3 升每分钟 |
| 超纯水细菌值 : | <1 CFU/100ml |
| 超纯水标准 : | <3 ppb TOC, 18.3 megohm-cm resistivity |
| 废料桶容量 : | 88升 |
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