主要特性
- 最少次级表面损伤
- 最大样品尺寸—直径20cm (8")
- 抗腐材料制成
- 方便，远程面板控制
- 半导体晶片和光晶体的精细腐蚀抛光
描述
本系统专门设计用于通风柜内使用，最大样品容量为：3片直径114mm样品。
半导体晶片及其它光电材料晶体的精细抛光需要最小的次级表面损伤，因此需要选择最终表面腐蚀抛光工艺 。
在这些工艺中使用的化学试剂，像溴甲醇，过氧化氢或酸剂都是强腐蚀性的， 这就要求使用的设备能防腐蚀。
CP3000不仅用于这些强腐蚀剂抛光，而且还可以用于弱腐蚀性的Chemlox抛光液，像用于半导体晶片背面抛光。
产品附件
CP3000 可选用 220V/50Hz 和110V/50-60Hz两种. 有两种安装配置: -一种是 CP3000标准版，还远程控制单元 ，填料桶和废料桶，一种是带摆动装置的CP3000，并有远程控制单元 ，废料桶和可选的自动填料系统.
产品规格
| 电源 : | 220V/240V, 50Hz 或110V, 50/60Hz |
| 主单 元 : | 400x435x260mm |
| 远程控制单元 : | 500x245x195mm |
| 最大高度，带料桶 : | 660mm |
| 盘直径 : | 356mm (14") |
| 盘最大尺寸 : | 1 off - 8" ø 3 off - 4.5" ø |
| 盘转速 : | 0-70rpm |
| 重量 : | 42公斤 |
需要更多关于CP3000的信息，请至电 +86 (10)62564811，62538157或者填写我们的联系表格.